Innovative, äußerst sensible Fertigungsverfahren, steigende Qualitätsansprüche und der rasche Fortschritt in Forschung und Entwicklung stellen stetig wachsende Anforderungen an Produktions- und Entwicklungsumgebungen in der Halbleiterindustrie, der Nanotechnologie, der Mikromechanik und der Optischen Industrie dar.
Sehr geringe Temperatur- und Feuchtetoleranzen, absolute Reinheit hinsichtlich gasförmiger und partikulärer Verunreinigungen sowie die Abschirmung von Schall- und Vibrationseinflüssen und elektromagnetischer Strahlung sind die entscheidenden Faktoren für optimale Kundenprozesse.
Unsere Lösung: das MEC System (Modular Environmental Chamber)
| Typ | Wert |
|---|---|
| Luftvolumenstrom | 2,95 m³/h |
| Lufttemperatur | 22 °C |
| Temperaturstabilität | ± 5 mK bis ± 1 mK |
| Feuchtigkeit | 33 % r.H. |
| Feuchtigkeitsstabilität | ± 0,3 % r.H. |
| Akkustische Abschirmung | für 100 < f < 5000 Hz: -15 dB |
| Magnetische Abschirmung | für 10 < f < 200 Hz: -30 dB |
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